EARLIER THIS MONTH: Intel said ASML's High NA EUV machines have processed more than a million wafers, some of them for its newest laptop chips. The machine has over 100,000 parts from about 5,000 suppliers, and its mirrors are the most precise in the world. The next step I'd watch is the photomask, because Intel wants masks twice the usual size so the biggest chips can be printed in a single exposure.
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A principios de este mes, Intel informó que las máquinas EUV de «High NA» (apertura numérica elevada) de ASML han procesado más de un millón de obleas, algunas de ellas destinadas a sus chips más recientes para portátiles. Esta máquina consta de más de 100
000 componentes provenientes de unos 5000 proveedores, y sus espejos son los más precisos del mundo. El siguiente aspecto al que prestaré atención es la fotomáscara: Intel busca máscaras que dupliquen el tamaño habitual, lo que permitiría fabricar los chips de mayor envergadura en una sola exposición.
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